Ingegneria Ceramic Co., (EC © ™) Rapporto:
Il gorgogliare integrato ALD (Deposizione dello strato atomico) è i componenti del contenitore chiave che utilizzavano materiali precursori nel processo di deposizione di strati atomici, potrebbe aiutare a contenere il vapore precursore in un flusso di gas tampone. Non solo per ALD, anche l'uso per la deposizione di vapore chimico (CVD), la deposizione di vapore chimico metallo-organico (MOCVD).
La settimana 28, EC è stata consegnataUn elettrodo a spina per aviazione a vuoto personalizzato per ALD (deposizione di strati atomici) Sistema di erogazione del vapore liquido.
Applicazione
Produzione di semiconduttori:
Nella produzione di chip, al fine di coltivare strati isolanti di gate di alta qualità (come film dielettrici ad alto κ), strati di interconnessione in metallo e altre strutture cinematografiche, ilAldLe bottiglie di origine mantengono i precursori corrispondenti per garantire una precisa deposizione di strati atomici, che svolge un ruolo importante nel migliorare le prestazioni dei chip e nel ridurre il consumo di energia.
Sistemi microelettro-meccanici (MEMS):
Sono usati per preparare vari film in dispositivi MEMS, come i film sensibili dei sensori e i film funzionali sulle superfici delle strutture micro meccaniche, contribuendo a migliorare la sensibilità, la stabilità e altri indicatori di prestazione dei dispositivi MEMS. Ottico
Campo di rivestimento:
Possono archiviare i precursori utilizzati per il deposito di film ottici (come film antiriflettiti, film riflettenti, ecc.). Attraverso il processo ALD, i film che soddisfano i requisiti di prestazioni ottici possono essere coltivati con precisione sui substrati come lenti ottiche e schermi di visualizzazione per migliorare la trasmittanza, la riflettanza e altre caratteristiche ottiche dei prodotti ottici.
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